我国芯反击！国产自研7纳米芯片露脸-icspec

比尔盖茨此前坦言，美丽国越是封闭越会加快咱们的自研芯片进程，现在来看美国的做法只会“迫使”我国花时间和金钱来制作自己的芯片，

近来，龙芯中科传来好音讯，自研的7纳米芯片3A6000现已有了发展，本年上半年完结流片，顺畅的话下一年将迎来大批量出货！

3月9日音讯，长沙驰芯半导体科技有限公司宣告，通过近三年的悉心研制，推出了其自主研制的两款低功耗湘江系列超宽带（UWB）芯片产品。这是湖南为数不多的芯片规划企业推出的全新产品，打破了超宽带芯片的国外技能独占。

作为一家物联网芯片规划的草创企业，驰芯半导体专心于UWB芯片的研制，现在已完结了UWB芯片核心技能堆集，打破了UWB芯片所需的多项关键技能，并获得了相关专利技能。

长沙驰芯半导体董事长景振海表明，UWB技能使用瓶颈首要仍是低功耗。要在高频段、高带宽上完成低功耗技能，存在许多技能难点。现在驰芯半导体在这方面堆集了许多先进的技能，霸占了许多技能难关，湘江CX310和湘江CX500的功耗目标世界抢先，将大大加快UWB技能在手机、轿车和物联网等职业中的使用。

近年来，国内正在赶紧芯片规划研制，在规划层面现已获得许多效果。如阿里巴巴根据RISC-V架构研制出8款玄铁处理器，龙芯中科自研了LoongArch指令集架构。还有华大九霄的EDA软件供给芯片规划东西。

国产自研技能日新月异的确值得快乐，可是咱们也要意识到：出产高端芯片的光刻机打破才是要点。否则就算规划出0.1nm芯片，全自研架构，假如没有制作层面的支撑，许多东西就都是坐而论道。

现在，国内的技能团队现已从零开始研制出了自己的刻蚀机，也小有成就，先后研制出了45nm、28nm、14nm 和 10nm 制程的蚀刻机设备。

光刻机的研制是需求长时间吃苦攻关的，期望国产芯片光刻机能不停地改善改造与打破，为国产芯片制作添砖加瓦，提前完成的我国高端芯片的自给自足。

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